Poliarimetrinė analizės metodai. Priemonės ir įranga. Pritaikymo būdai

Poliarimetrinė analizės metodai. Priemonės ir įranga.Pritaikymo būdai.
Cheminė analizė – vienas svarbiausių būdų žaliavos,pusgaminių, produkcijos kokybei bei oro sudėčiai patalpose tikrinti. Beveik nėra tokios šakos,kad nebūtų taikoma cheminė analizė nė viena gamykla negali išleisti aukštos kokybės produkcijos, jeigu jos technologiniuose gamybos etapuose nėra tikslios laboratorinės kontrolės.
Šią temą apie poliarizacijos cheminės analizės metodus pasirinkome norėdami pagilinti savo žinias įgytas paskaotų metu.
Tikslai buvo:
• Išsiaiškinti poliarizacijos metodus,pritaikymo būdus.
• Kokia įranga, bei prietaisai naudojami.
• Kur yra taikomi poliarizacijos metodai praktikoje.
Poliarimetrinė analizė
Poliarimetrinė analizė – tai optiškai aktyvios medžiagos sandaros, savybių, būsenos tyrimo metodai, pagrįsti iš dalies poliarizuotos šviesos poliarizacijos laipsnio arba poliarizacijos plokštumos sukimo kampo matavimu toje medžiagoje. Pagal poliarizacijos plokštumos sukimo kampą, išmatuotą, kai tiesiai poliarizuota šviesa skverbiasi per optiškai aktyvios medžiagos tirpalą, nustatoma medžiagos koncentracija tirpale. Šviesos bangos – tai trumpos skersinės elektromagnetinės bangos, kurių elektrinis E ir magnetinis H vektoriai yra statmeni vienas kitam. Natūraliosios šviesos spindulio virpesiai vyksta visose plokštumose, kurios yra statmenos spindulio sklidimo krypčiai. Poliarizuotosios šviesos spindulys gaunamas natūraliąją šviesą praleidus per specialias dvejopo lūžio prizmes. Spindulys, kurio virpesiai vyksta tik vienoje tam tikroje
plokštumoje, vadinamas ploiarizuotu spinduliu, o šio spindulio virpesių plokštuma – poliarizuotojo spindulio virpesių plokštuma. Poliarizacijos plokštuma statmena virpesių plokštumai. Kai per optiškai aktyvios medžiagos sluoksnį prasiskverbia poliarizuotasis spindulys, jo poliarizacijos plokštuma pasikeičia, t.y. išėjusio spindulio poliarizacijos plokštuma yra pasukama tam tikru kampu, kuris vadinamas poliarizacijos plokštumos sukimo kampu β. Šio kampo dydis priklauso nuo optiškai aktyvios medžiagos sluoksnio storio, jos koncentracijos ir individualių savybių. Visi šie dydžiai yra susiję šia priklausomybe:
α=±aCl
čia α – spesifinis poliarizacijos plokštumos sukimas;
C – koncentracija gramais 100 ml tirpalo;
L – sluoksnio storis
Ženklai ± atitinka pasukimą į dešinę ir į kairę.
Savitasis poliarizacijos plokštumos sukimo kampas α rodo, kokiu kampu pasuka poliarizacijos plokštumą 1cm storio tirpalo sluoksnis, kai 1 ml tirpalo yra ištirpęs 1 g optiškai aktyvios medžiagos.
Visos medžiagos, atsižvelgiant į jų elgesį poliarizuotoje plokštumoje,...

Daugiau informacijos...

★ Klientai rekomenduoja

Šį rašto darbą rekomenduoja mūsų klientai. Ką tai reiškia?

Mūsų svetainėje pateikiama dešimtys tūkstančių skirtingų rašto darbų, kuriuos įkėlė daugybė moksleivių ir studentų su skirtingais gabumais. Būtent šis rašto darbas yra patikrintas specialistų ir rekomenduojamas kitų klientų, kurie po atsisiuntimo įvertino šį mokslo darbą teigiamai. Todėl galite būti tikri, kad šis pasirinkimas geriausias!